Vliv kyslíku na chemickou strukturu vrstev plazmového polymeru deponovaného ze směsi tetravinylsilanu a kyslíku
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F07%3APU70622" target="_blank" >RIV/00216305:26310/07:PU70622 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Influence of oxygen on the chemical structure of plasma polymer films deposited from a mixture of tetravinylsilane and oxygen gas
Popis výsledku v původním jazyce
Tetravinylsilane was used to deposit hydrogenated amorphous silicon carbide (a-SiC:H) films with vinyl groups as functional species using an RF (13.56 MHz) pulsed plasma. Oxygen gas was mixed in tetravinylsilane in order to improve compatibility of a SiOC:H thin films with silicon dioxide component. The oxygen-to-total flowrate ratio and effective power were the only variable deposition parameters. Deposited films were analyzed by Rutherford Backscattering Spectrometry, Elastic Recoil Detection Analysis, and infrared spectroscopy in order to determine elemental composition and chemical structure of the plasma polymer. The chemical structure of films was correlated with plasma species monitored by mass spectroscopy during the deposition process and theresults clarified changes in chemical structure of films under influence of oxygen.
Název v anglickém jazyce
Influence of oxygen on the chemical structure of plasma polymer films deposited from a mixture of tetravinylsilane and oxygen gas
Popis výsledku anglicky
Tetravinylsilane was used to deposit hydrogenated amorphous silicon carbide (a-SiC:H) films with vinyl groups as functional species using an RF (13.56 MHz) pulsed plasma. Oxygen gas was mixed in tetravinylsilane in order to improve compatibility of a SiOC:H thin films with silicon dioxide component. The oxygen-to-total flowrate ratio and effective power were the only variable deposition parameters. Deposited films were analyzed by Rutherford Backscattering Spectrometry, Elastic Recoil Detection Analysis, and infrared spectroscopy in order to determine elemental composition and chemical structure of the plasma polymer. The chemical structure of films was correlated with plasma species monitored by mass spectroscopy during the deposition process and theresults clarified changes in chemical structure of films under influence of oxygen.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Processes and Polymers
ISSN
1612-8850
e-ISSN
—
Svazek periodika
4
Číslo periodika v rámci svazku
S1
Stát vydavatele periodika
DE - Spolková republika Německo
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
776-780
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—