Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Mechanical properties of plasma polymer film evaluated by conventional and alternative nanoindentation techniques

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F10%3APU90072" target="_blank" >RIV/00216305:26310/10:PU90072 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Mechanical properties of plasma polymer film evaluated by conventional and alternative nanoindentation techniques

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A plasma-polymerized tetravinylsilane film of about 1 micron thickness was prepared under steady-state deposition conditions on polished silicon wafer using plasma-enhanced chemical vapor deposition. Near-surface mechanical properties such as the reducedmodulus and hardness of the plasma polymer film were investigated using conventional depth-sensing nanoindentation as well as load-partial-unload (cyclic) nanoindentation. The study found an influence of the dwell time and loading/unloading rate on thedetermined values of the reduced modulus, hardness, and contact depth.

  • Název v anglickém jazyce

    Mechanical properties of plasma polymer film evaluated by conventional and alternative nanoindentation techniques

  • Popis výsledku anglicky

    A plasma-polymerized tetravinylsilane film of about 1 micron thickness was prepared under steady-state deposition conditions on polished silicon wafer using plasma-enhanced chemical vapor deposition. Near-surface mechanical properties such as the reducedmodulus and hardness of the plasma polymer film were investigated using conventional depth-sensing nanoindentation as well as load-partial-unload (cyclic) nanoindentation. The study found an influence of the dwell time and loading/unloading rate on thedetermined values of the reduced modulus, hardness, and contact depth.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    0257-8972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    205

  • Číslo periodika v rámci svazku

    Suppl 1

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus