Protection by Deposition of Parylene and SiOx Thin Layers

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F12%3APU105249" target="_blank" >RIV/00216305:26310/12:PU105249 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Protection by Deposition of Parylene and SiOx Thin Layers

Popis výsledku v původním jazyce

The aim of this work is protection of archaeological artefacts due to the thin films of parylene and SiOx. Thin films of parylene were prepared by CVD technique and SiOx thin films were prepared by PECVD. This thin films were characterized by various methods, for example by SEM, OTR, XPS and FTIR.

Název v anglickém jazyce

Protection by Deposition of Parylene and SiOx Thin Layers

Popis výsledku anglicky

The aim of this work is protection of archaeological artefacts due to the thin films of parylene and SiOx. Thin films of parylene were prepared by CVD technique and SiOx thin films were prepared by PECVD. This thin films were characterized by various methods, for example by SEM, OTR, XPS and FTIR.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

AC - Archeologie, antropologie, etnologie

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GD104%2F09%2FH080" target="_blank" >GD104/09/H080: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů