Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Atmospheric Pressure Microwave Plasma Jet for Organic Thin Film Deposition

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F20%3APU137772" target="_blank" >RIV/00216305:26310/20:PU137772 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://www.mdpi.com/2073-4360/12/2/354" target="_blank" >https://www.mdpi.com/2073-4360/12/2/354</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.3390/polym12020354" target="_blank" >10.3390/polym12020354</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Atmospheric Pressure Microwave Plasma Jet for Organic Thin Film Deposition

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this work, the potential of a microwave (MW)‐induced atmospheric pressure plasma jet (APPJ) in film deposition of styrene and methyl methacrylate (MMA) precursors is investigated. Plasma properties during the deposition and resultant coating characteristics are studied. Optical emission spectroscopy (OES) results indicate a higher degree of monomer dissociation in the APPJ with increasing power and a carrier gas flow rate of up to 250 standard cubic centimeters per minute (sccm). Computational fluid dynamic (CFD) simulations demonstrate non‐uniform monomer distribution near the substrate and the dependency of the deposition area on the monomercontaining gas flow rate. A non‐homogeneous surface morphology and topography of the deposited coatings is also observed using atomic force microscopy (AFM) and SEM. Coating chemical analysis and wettability are studied by XPS and water contact angle (WCA), respectively. A lower monomer flow rate was found to result in a higher C–O/C–C ratio and a higher wettability of the deposited coatings.

  • Název v anglickém jazyce

    Atmospheric Pressure Microwave Plasma Jet for Organic Thin Film Deposition

  • Popis výsledku anglicky

    In this work, the potential of a microwave (MW)‐induced atmospheric pressure plasma jet (APPJ) in film deposition of styrene and methyl methacrylate (MMA) precursors is investigated. Plasma properties during the deposition and resultant coating characteristics are studied. Optical emission spectroscopy (OES) results indicate a higher degree of monomer dissociation in the APPJ with increasing power and a carrier gas flow rate of up to 250 standard cubic centimeters per minute (sccm). Computational fluid dynamic (CFD) simulations demonstrate non‐uniform monomer distribution near the substrate and the dependency of the deposition area on the monomercontaining gas flow rate. A non‐homogeneous surface morphology and topography of the deposited coatings is also observed using atomic force microscopy (AFM) and SEM. Coating chemical analysis and wettability are studied by XPS and water contact angle (WCA), respectively. A lower monomer flow rate was found to result in a higher C–O/C–C ratio and a higher wettability of the deposited coatings.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2020

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Polymers

  • ISSN

    2073-4360

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    12

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2

  • Stát vydavatele periodika

    CH - Švýcarská konfederace

  • Počet stran výsledku

    23

  • Strana od-do

    1-23

  • Kód UT WoS článku

    000519849800104

  • EID výsledku v databázi Scopus