Příprava mikro a nanostruktur pomocí selektivního mokrého leptání křemíku

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F14%3APU110040" target="_blank" >RIV/00216305:26620/14:PU110040 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Příprava mikro a nanostruktur pomocí selektivního mokrého leptání křemíku

Popis výsledku v původním jazyce

Chemické leptání patří mezi velmi používané metody modifikace povrchu mnoha materiálů, které je využíváno jak v průmyslu, tak i v základním výzkumu. Tento článek pojednává o přípravě povrchových struktur selektivním mokrým leptáním Si(100) přes masku, jež je vytvořena pomocí metod elektronové a iontové litografie. Tyto metody s vysokým rozlišením v kombinaci s leptáním za použití vodného roztoku hydroxidu draselného (KOH) umožňují získat struktury rozdílných tvarů a rozměrů jak v mikrometrovém, tak i nanometrovém měřítku.

Název v anglickém jazyce

Preparation of micro and nanostructures by selective Si wet etching

Popis výsledku anglicky

Chemical etching is widely utilized method for surface modification of many materials and is used both in industry and in basic research. This article deals with the preparation of surface structures by selective wet etching of Si(100) through a mask created by electron and ion beam lithography. Combining these high-resolution patterning techniques with etching using an aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) allows to obtain structures with different shapes and sizes, both at micrometer and nanometer scale.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Jemná mechanika a optika

ISSN

0447-6441

e-ISSN

—

Svazek periodika

59

Číslo periodika v rámci svazku

6-7

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

192-195

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—