Způsob přípravy dvou a tří rozměrných objektů z pevných látek pomocí elektronového svazku
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F18%3APA21570" target="_blank" >RIV/00216305:26620/18:PA21570 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Způsob přípravy dvou a tří rozměrných objektů z pevných látek pomocí elektronového svazku
Popis výsledku v původním jazyce
Způsob přípravy dvou nebo tří rozměrných objektů z pevných látek řízeným přesunem hmoty spojovaných materiálů pomocí elektronového svazku ve směru k tomuto elektronovému svazku zahrnuje kroky: připraví se pevný substrát, definuje se oblast pro expozici elektronovým paprskem, určí se rozměr elektronového svazku, urychlovací napětí a proud, provede se expozice substrátu alespoň jedním elektronovým svazkem. Doba expozice je úměrná požadovanému objemovému růstu dvou nebo tří rozměrných objektů. Elektronový svazek se pohybuje vopakujícím se rastrovacím vzoru exponované oblasti. Modulace elektronového svazku se provede elektronovou optikou. Substrátem je krystalická látka nebo sklo nebo keramika. Urychlovací napětí je v rozsahu 0,1 až 10kV.
Název v anglickém jazyce
Method of preparation of two and three dimensional objects from solids by electron beam
Popis výsledku anglicky
The method of preparing two or three dimensional solid objects by controlling the transfer of mass of bonded materials by an electron beam in the direction of the electron beam comprises the steps of: preparing a solid substrate, defining an electron beam exposure area, determining the electron beam dimension, accelerating voltage and current , exposing the substrate to at least one electron beam. The exposure time is proportional to the desired volume growth of two or three dimensional objects. The electron beam moves in the repeating scanning pattern of the exposed area. Electron beam modulation is performed by electron optics. The substrate is a crystalline substance or glass or ceramic. The acceleration voltage is in the range of 0.1 to 10kV.
Klasifikace
Druh
P - Patent
CEP obor
—
OECD FORD obor
20504 - Ceramics
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
R - Projekt Ramcoveho programu EK
Ostatní
Rok uplatnění
2018
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Číslo patentu nebo vzoru
307593
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
21. 11. 2018
Název vlastníka
Vysoké učení technické v Brně
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence