Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Způsob přípravy dvou a tří rozměrných objektů z pevných látek pomocí elektronového svazku

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F18%3APA21570" target="_blank" >RIV/00216305:26620/18:PA21570 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Způsob přípravy dvou a tří rozměrných objektů z pevných látek pomocí elektronového svazku

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Způsob přípravy dvou nebo tří rozměrných objektů z pevných látek řízeným přesunem hmoty spojovaných materiálů pomocí elektronového svazku ve směru k tomuto elektronovému svazku zahrnuje kroky: připraví se pevný substrát, definuje se oblast pro expozici elektronovým paprskem, určí se rozměr elektronového svazku, urychlovací napětí a proud, provede se expozice substrátu alespoň jedním elektronovým svazkem. Doba expozice je úměrná požadovanému objemovému růstu dvou nebo tří rozměrných objektů. Elektronový svazek se pohybuje vopakujícím se rastrovacím vzoru exponované oblasti. Modulace elektronového svazku se provede elektronovou optikou. Substrátem je krystalická látka nebo sklo nebo keramika. Urychlovací napětí je v rozsahu 0,1 až 10kV.

  • Název v anglickém jazyce

    Method of preparation of two and three dimensional objects from solids by electron beam

  • Popis výsledku anglicky

    The method of preparing two or three dimensional solid objects by controlling the transfer of mass of bonded materials by an electron beam in the direction of the electron beam comprises the steps of: preparing a solid substrate, defining an electron beam exposure area, determining the electron beam dimension, accelerating voltage and current , exposing the substrate to at least one electron beam. The exposure time is proportional to the desired volume growth of two or three dimensional objects. The electron beam moves in the repeating scanning pattern of the exposed area. Electron beam modulation is performed by electron optics. The substrate is a crystalline substance or glass or ceramic. The acceleration voltage is in the range of 0.1 to 10kV.

Klasifikace

  • Druh

    P - Patent

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20504 - Ceramics

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    R - Projekt Ramcoveho programu EK

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Číslo patentu nebo vzoru

    307593

  • Vydavatel

    CZ001 -

  • Název vydavatele

    Industrial Property Office

  • Místo vydání

    Prague

  • Stát vydání

    CZ - Česká republika

  • Datum přijetí

    21. 11. 2018

  • Název vlastníka

    Vysoké učení technické v Brně

  • Způsob využití

    A - Výsledek využívá pouze poskytovatel

  • Druh možnosti využití

    A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence