FUNKČNÍ VZOREK BEZPEČNOSTNÍHO DOVID

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F19%3AN0000005" target="_blank" >RIV/48950076:_____/19:N0000005 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

FUNKČNÍ VZOREK BEZPEČNOSTNÍHO DOVID

Popis výsledku v původním jazyce

Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. První hologram byl exponován na prototypu elektronového litografu o energii 80 keV od společnosti TESCAN. Byly provedeny tři expozice motivu Fresnelova čočka o velikosti 1 x 1 mm. Během expozice byla expoziční dávka nastavena na 15 μC/cm2, proud ve svazku byl 325 pA. Byl exponován elektronový rezist 495 PMMA A 15 s tloušťkou 1,7 μm, který byl pomocí odstředivky nanesen na křemíkový substrát. Druhý hologram byl exponován na elektronovém litografu Tesla BS601. Byly provedeny tři expozice motivu Optaglio Lion o velikosti 22 x 33 mm. Během expozice byla expoziční dávka nastavena na 3,5 μC/cm2, proud ve svazku byl 150 pA. Dále byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Funkční vzorek byl vyroben modifikovanou NIL, co vedlo k tomu, že plochy zkombinovaných hologramů jsou v jedné rovině

Název v anglickém jazyce

FUNCTIONAL SAMPLE OF SECURITY DOVID

Popis výsledku anglicky

The functional sample is a combination of two holograms, each hologram being exposed to a different lithograph. The first hologram was exposed on a prototype of an 80 keV electron beam lithograph from TESCAN company. Three exposures of 1 x 1 mm Fresnel lens motif were performed. During exposure, the exposure dose was set at 15 μC / cm2, the beam current was 325 pA. An electron resistor 495 PMMA A 15 with a thickness of 1.7 μm was exposed and applied to a silicon substrate by means of a centrifuge. The second hologram was exposed on a Tesla BS601 electron beam lithograph. Three exposures of the 22 x 33 mm Optaglio Lion motiv were made. During exposure, the exposure dose was set to 3.5 μC / cm2, the beam current was 150 pA. In addition, nickel holograms were combined using a Nano-Imprint Lithography (NIL) lithography technique into a polycarbonate substrate. The functional sample was made with modified NIL, which resulted in the surfaces of the combined holograms aligned.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

—

OECD FORD obor

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Projekt

<a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2019

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

2019- V016-OPT

Číselná identifikace

TE01020233-2019V016

Technické parametry

Funkční vzorek aplikuje výsledky výzkumu a vývoje ve výrobním procesu. Výzkum proběhl v rámci Oddělení výzkumu a vývoje společnosti OPTAGLIO a.s. v letech 2016 -2019. Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového rezistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. funkční vzorek byl vyroben modifikovanou NIL, což způsobilo, že plochy zkombinovaných hologramů jsou v jedné rovině.

Ekonomické parametry

Výsledek poslouží k rozšíření nabízeného portfolia bezpečnostních hologramů.

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

48950076

Název vlastníka

OPTAGLIO a.s.

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

V - Výsledek je využíván vlastníkem

Požadavek na licenční poplatek

—

Adresa www stránky s výsledkem

—