Funkční vzorek - Hologram vytvořen vzorek za využití kombinace pokročilé EB a FIB litografie

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F16%3AN0000001" target="_blank" >RIV/48950076:_____/16:N0000001 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Funkční vzorek - Hologram vytvořen vzorek za využití kombinace pokročilé EB a FIB litografie

Popis výsledku v původním jazyce

První funkční vzorek struktur byl připraven kombinací pokročilých litografických technik. Hologramy o rozsáhlé ploše (řádově desítky centimetrů čtverečných) jsou připravovány v rozumném čase na elektronových litografech s tvarovaným svazkem. Na litografu s Gaussovským svazkem a na litografu s fokusovaným iontovým svazkem jsme schopni za podobný čas vytvořit spíše menší plochy, jež se vyznačují mimořádně vysokým rozlišením. Spojením těchto technologií lze generovat velkoplošné hologramy s lokalizovaným extrémním rozlišením, čímž je umožněno vytvoření jedinečných struktur s několika výhodami oproti standardním vzorkům. Výsledky ukazují velký potenciál pro budoucí použití ve zcela nových aplikacích vyžadujících jednak velkoplošné hologramy a zároveň v dnešní době nejvyšší dosažitelnou míru jejich zabezpečení.

Název v anglickém jazyce

Functional Sample - Hologram created using advanced electron beam lithography in combination with focused ion beam lithography

Popis výsledku anglicky

The first functional sample was prepared using combination of advanced lithograph techniques. Holograms with large surface area (orders of tens of square centimeters) are prepared in reasonable time using electron lithograph with shaped beam. The Gaussian electron beam lithograph and focused ion beam lithograph are capable of creating only smaller surface areas in the same time, but the resolution is extremely high. By combining these approaches a large surface area holograms with localized small blobs of high resolution structures can be created, thus creating a unique holograms with several advantages over standard samples. Results demonstrate a great potential for future industrial applications, where large surface areas with high security features are required.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Interní identifikační kód produktu

G AMI 3781

Číselná identifikace

3781

Technické parametry

Šimon Černoušek,simon.cernousek@optaglio.cz, tel: +420 606 048 827

Ekonomické parametry

Očekáváme růst zisku plynoucí z diversifikace produktového portfolia.

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

48950076

Název vlastníka

OPTAGLIO s.r.o.

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Požadavek na licenční poplatek

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Adresa www stránky s výsledkem

—