Funkční vzorek kombinovaného bezpečnostního DOVID
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F19%3AN0000001" target="_blank" >RIV/48950076:_____/19:N0000001 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Funkční vzorek kombinovaného bezpečnostního DOVID
Popis výsledku v původním jazyce
Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového resistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Byla využita klasická NIL. Poté byly zkombinované hologramy převedeny z polykarbonátového substrátu do niklu, znova za použití galvanoplastiky.
Název v anglickém jazyce
FUNCTIONAL SAMPLE OF COMBINED SECURITY DOVID
Popis výsledku anglicky
A functional sample is a combination of two holograms, a different lithograph was used to expose each hologram. When exposed and motifed, the holograms were transferred by galvanization techniques from electron resist in a silicon nickel substrate. Subsequently, the nickel holograms were combined using lithographic printing techniques in nanometer resolution (NIL = Nano-Imprint Lithography) into polycarbonate substrate. Classic NIL was used. We request the combined holograms converted from polycarbonate nickel substrate, again using galvanization.
Klasifikace
Druh
G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek
CEP obor
—
OECD FORD obor
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
201902
Číselná identifikace
TE01020233V010
Technické parametry
Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. První hologram byl exponován na prototypu elektronového litografu o energii 80 keV od společnosti TESCAN.Druhý hologram byl exponován na elektronovém litografu Tesla BS601. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového resistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Poté byly zkombinované hologramy převedeny z polykarbonátového substrátu do niklu, znova za použití galvanoplastiky. Byla využita klasická NIL, což vedlo k tomu, že plochy zkombinovaných hologramů byly vůči sobě odsazeny o ~ 2,7 μm. Odsazení může způsobovat plastické deformace embosovací matrice během jejího použití při embosování do holografické folie. Také může docházet k nerovnoměrné úrovni prolisování v ploše holografické folie, zejména při tenkých fóliích s tloušťkou do 20 μm.
Ekonomické parametry
Zvýšení množství nabízených produktů - ochraných holografických struktur určených proti padělání dokumentů a cenin.
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
48950076
Název vlastníka
OPTAGLIO a.s.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
V - Výsledek je využíván vlastníkem
Požadavek na licenční poplatek
—
Adresa www stránky s výsledkem
—