Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Funkční vzorek kombinovaného bezpečnostního DOVID

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F19%3AN0000001" target="_blank" >RIV/48950076:_____/19:N0000001 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Funkční vzorek kombinovaného bezpečnostního DOVID

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového resistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Byla využita klasická NIL. Poté byly zkombinované hologramy převedeny z polykarbonátového substrátu do niklu, znova za použití galvanoplastiky.

  • Název v anglickém jazyce

    FUNCTIONAL SAMPLE OF COMBINED SECURITY DOVID

  • Popis výsledku anglicky

    A functional sample is a combination of two holograms, a different lithograph was used to expose each hologram. When exposed and motifed, the holograms were transferred by galvanization techniques from electron resist in a silicon nickel substrate. Subsequently, the nickel holograms were combined using lithographic printing techniques in nanometer resolution (NIL = Nano-Imprint Lithography) into polycarbonate substrate. Classic NIL was used. We request the combined holograms converted from polycarbonate nickel substrate, again using galvanization.

Klasifikace

  • Druh

    G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2019

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    201902

  • Číselná identifikace

    TE01020233V010

  • Technické parametry

    Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. První hologram byl exponován na prototypu elektronového litografu o energii 80 keV od společnosti TESCAN.Druhý hologram byl exponován na elektronovém litografu Tesla BS601. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového resistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Poté byly zkombinované hologramy převedeny z polykarbonátového substrátu do niklu, znova za použití galvanoplastiky. Byla využita klasická NIL, což vedlo k tomu, že plochy zkombinovaných hologramů byly vůči sobě odsazeny o ~ 2,7 μm. Odsazení může způsobovat plastické deformace embosovací matrice během jejího použití při embosování do holografické folie. Také může docházet k nerovnoměrné úrovni prolisování v ploše holografické folie, zejména při tenkých fóliích s tloušťkou do 20 μm.

  • Ekonomické parametry

    Zvýšení množství nabízených produktů - ochraných holografických struktur určených proti padělání dokumentů a cenin.

  • Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

  • IČO vlastníka výsledku

    48950076

  • Název vlastníka

    OPTAGLIO a.s.

  • Stát vlastníka

    CZ - Česká republika

  • Druh možnosti využití

    V - Výsledek je využíván vlastníkem

  • Požadavek na licenční poplatek

  • Adresa www stránky s výsledkem