Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Patterning large area plasmonic nanostructures on non-conductive substrates using variable pressure electron beam lithography

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F01733214%3A_____%2F16%3AN0000002" target="_blank" >RIV/01733214:_____/16:N0000002 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://eipbn.omnibooksonline.com/data/papers/2016/4A5.pdf#page=1" target="_blank" >http://eipbn.omnibooksonline.com/data/papers/2016/4A5.pdf#page=1</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1116/1.4966959" target="_blank" >10.1116/1.4966959</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Patterning large area plasmonic nanostructures on non-conductive substrates using variable pressure electron beam lithography

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Our research is focused on variable pressure electron beam lithography (VP-EBL). VP-EBL is based on the introduction of residual N2 gas atmosphere in the specimen chamber in order to create positive ions to balance negatively charged sample surface. The main advantage of our approach is no need of any sample pre-exposure or post-exposure treatment.

  • Název v anglickém jazyce

    Patterning large area plasmonic nanostructures on non-conductive substrates using variable pressure electron beam lithography

  • Popis výsledku anglicky

    Our research is focused on variable pressure electron beam lithography (VP-EBL). VP-EBL is based on the introduction of residual N2 gas atmosphere in the specimen chamber in order to create positive ions to balance negatively charged sample surface. The main advantage of our approach is no need of any sample pre-exposure or post-exposure treatment.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2016

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Vacuum Science and Technology B

  • ISSN

    2166-2746

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    34

  • Číslo periodika v rámci svazku

    6

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    “06K801-1”-“06K801-4”

  • Kód UT WoS článku

    000389530000024

  • EID výsledku v databázi Scopus