Tvorba plazmonických nanostruktur na elektricky nevodivých substrátech pomocí elektronové litografie

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F16%3APU120328" target="_blank" >RIV/00216305:26620/16:PU120328 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Tvorba plazmonických nanostruktur na elektricky nevodivých substrátech pomocí elektronové litografie
Popis výsledku v původním jazyce
Výroba plasmonických nanoantén s rezonančními frekvencemi ve viditelné oblasti pomocí elektronové litografie mnohdy přináší nutnost expozice nevodivých substrátů. Tato práce je zaměřena na porovnání výsledků dosažitelných konvenčním přístupem za použití vodivých polymerů a alternativního postupu v podobě litografie za variabilního tlaku (VP-EBL). Dále je testována stabilita VP-EBL procesu pro dlouhodobé expozice.
Název v anglickém jazyce
Fabrication of plasmonic nanostructures on non-conductive substrates using variable pressure electron beam lithography
Popis výsledku anglicky
Fabrication of plasmonic nanoantennas with resonance frequencies in visible range is often challenging due to the necessity of exposure of non-conductive substrates. This work is focussed in comparism of conventionl fabrication approach using conductive polymer layers and alternative variable pressure electron beam lithography (VP-EBL) method. We have also studied the stability of VP-EBL process for long exposures.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)