PB3 Aplikační listy pro použití zařízení Xe Plasma FIB-SEM pro polovodičový průmysl

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F26821532%3A_____%2F21%3AN0000010" target="_blank" >RIV/26821532:_____/21:N0000010 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
PB3 Aplikační listy pro použití zařízení Xe Plasma FIB-SEM pro polovodičový průmysl
Popis výsledku v původním jazyce
Aplikační listy ve formě prospektu obsahujíúvod do problematiky vytyčující požadavky aplikace, postup, kterým lze s použitím tohoto nového přístroje požadavků dosáhnout a nakonec výsledky (obrázky, spektra atd.), kterých se s použitím daných technik dosáhlo. Výsledek přímo podpoří komercializaci vyvinutého řešení a umožní kvalifikace nových metod v polovodičovém průmyslu.
Název v anglickém jazyce
PB3 Application Notes for Xe Plasma FIB-SEM application in semiconductor industry
Popis výsledku anglicky
The application notes in the form of a prospectus contain an introduction to the application of FIB SEM, the procedure by which this application requirements can be achieved using this new instrument, and finally the results (images, spectra, etc.) achieved using the techniques. The result will directly support the ommercialization of the developed solution and enable the qualification of new methods in the semiconductor industry.

Projekt
<a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)