Electron density and ion flux to the substrate in a Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System excited by DC-Pulsed Plasma.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F00%3A00000076" target="_blank" >RIV/46747885:24210/00:00000076 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Electron density and ion flux to the substrate in a Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System excited by DC-Pulsed Plasma.

Popis výsledku v původním jazyce

Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) has been used in many areas for deposition of coatings with special properties. To obtain some insights how the internal plasma parameters significant for film

Název v anglickém jazyce

Electron density and ion flux to the substrate in a Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System excited by DC-Pulsed Plasma.

Popis výsledku anglicky

Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) has been used in many areas for deposition of coatings with special properties. To obtain some insights how the internal plasma parameters significant for film

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JK - Koroze a povrchové úpravy materiálu

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2000

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

7th international conference on plasma surface engineering

ISBN

—

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

1

Strana od-do

—

Název nakladatele

Deutsche Gesellschaft fur Galvano- und Oberfachentechnik e.V. Horionplatz 6 D-40213 Dusseldorf, Germany

Místo vydání

Dusseldorf

Místo konání akce

—

Datum konání akce

—

Typ akce podle státní příslušnosti

—

Kód UT WoS článku

—