Chromatic monitoring of downstream microwave plasma source.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F00%3A00000077" target="_blank" >RIV/46747885:24210/00:00000077 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Chromatic monitoring of downstream microwave plasma source.

Popis výsledku v původním jazyce

The application of the chromatic sensing for monitoring of a microwave plasma source is described. The emitted radiation from the plasma excited in the argon, oxygen and CF4 mixture was measured with three PIN-

Název v anglickém jazyce

Chromatic monitoring of downstream microwave plasma source.

Popis výsledku anglicky

The application of the chromatic sensing for monitoring of a microwave plasma source is described. The emitted radiation from the plasma excited in the argon, oxygen and CF4 mixture was measured with three PIN-

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JB - Senzory, čidla, měření a regulace

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2000

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

19th Symposium on Plasma Physics and Technology

ISBN

AIIN 0011-4626

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

—

Název nakladatele

Institute of Plasma Physics Za Slovankou 3, 182 21 Prague 8, Czech Republic

Místo vydání

Praha

Místo konání akce

—

Datum konání akce

—

Typ akce podle státní příslušnosti

—

Kód UT WoS článku

—