Low Pressure RF Multi-Plasma-Jet System for Deposition of the Alloy and Composite Thin Films

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F01%3A24210051" target="_blank" >RIV/46747885:24210/01:24210051 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Low Pressure RF Multi-Plasma-Jet System for Deposition of the Alloy and Composite Thin Films
Popis výsledku v původním jazyce
A plasma-chemical reactor with a multi-plasma-jet RF hollow-cathode system has been developed for the deposition of alloy and composite thin films. Two primary plasma-jet channels and one secondary plasma channel were created in the volume of the reactorHigh-density plasma flowingin these plasma-jet channels is generated inside the nozzles. These work simultaneously as RF hollow cathodes.
Název v anglickém jazyce
Low Pressure RF Multi-Plasma-Jet System for Deposition of the Alloy and Composite Thin Films
Popis výsledku anglicky
A plasma-chemical reactor with a multi-plasma-jet RF hollow-cathode system has been developed for the deposition of alloy and composite thin films. Two primary plasma-jet channels and one secondary plasma channel were created in the volume of the reactorHigh-density plasma flowingin these plasma-jet channels is generated inside the nozzles. These work simultaneously as RF hollow cathodes.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)