Hydrofilnost TiO2 filmů připravených plazmou podporovanou depozicí z plynné fáze.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F06%3A%400000114" target="_blank" >RIV/46747885:24210/06:@0000114 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Hydrophility of TiO2 films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition.
Popis výsledku v původním jazyce
In recent years, titanium dioxide thin film has attracted great attention because of its unique properties, which predestinate them towide high-tech applications. Very promising is application of titaniumdioxide thin films as photocatalytic self-cleaninglayers. Several works has been done to investigate photocatalytic reduction of variousmodel chemicals. This photocatalytic activity is reported to connectedwith enhancement of the surface energy of the film. Our work is focused on study of hydrophilityof TiOx thin films deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) prepared with different deposition parameters. Hydrophility is important and interesting property of photocatalytic thin films. The rate of hydrophility is characterized bycontact angle measured by dropping test. Resultant valuables of contact angles show higher hydrophility of thin films after UV illumination incidence...
Název v anglickém jazyce
Hydrophility of TiO2 films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition.
Popis výsledku anglicky
In recent years, titanium dioxide thin film has attracted great attention because of its unique properties, which predestinate them towide high-tech applications. Very promising is application of titaniumdioxide thin films as photocatalytic self-cleaninglayers. Several works has been done to investigate photocatalytic reduction of variousmodel chemicals. This photocatalytic activity is reported to connectedwith enhancement of the surface energy of the film. Our work is focused on study of hydrophilityof TiOx thin films deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) prepared with different deposition parameters. Hydrophility is important and interesting property of photocatalytic thin films. The rate of hydrophility is characterized bycontact angle measured by dropping test. Resultant valuables of contact angles show higher hydrophility of thin films after UV illumination incidence...
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JK - Koroze a povrchové úpravy materiálu
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/1M0577" target="_blank" >1M0577: Výzkumné centrum pro nanopovrchové inženýrství</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Programme and Abstract Book of the 22nd Symposium on Plasma Physics and Technology
ISBN
80-01-03506-9
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
1
Strana od-do
73
Název nakladatele
ČVUT Praha
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
26. 6. 2006
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—