Fotokatalytická tenká vrstva TiO2 připravená PE CVD při nízké teplotě.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F07%3A%40KMT0085" target="_blank" >RIV/46747885:24210/07:@KMT0085 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Photocatalytic TiO2 thin Film Prepared by PE CVD at low Temperature.

Popis výsledku v původním jazyce

TiO2 thin films were prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) technique. Titanium (IV) isopropoxide mixture with oxygen was used as the working gas. Films were deposited on glass and silicon substrates. Photocatalytic activity and photoinduced hydrophilicity of the films were investigated in dependence on experimental conditions. The films were characterized by scanning electron microscope (SEM), atomic force microscope (AFM), X-ray diffraction (XRD), Rutherford backscattering spectroscopy (RBS), and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Photocatalytic properties of the films were strongly influenced by ion bombardment and deposition temperature. The film with anatase crystalline structure and with high photocatalytic activity was deposited at 120 8C under low energy ion bombardment

Název v anglickém jazyce

Photocatalytic TiO2 thin Film Prepared by PE CVD at low Temperature.

Popis výsledku anglicky

TiO2 thin films were prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) technique. Titanium (IV) isopropoxide mixture with oxygen was used as the working gas. Films were deposited on glass and silicon substrates. Photocatalytic activity and photoinduced hydrophilicity of the films were investigated in dependence on experimental conditions. The films were characterized by scanning electron microscope (SEM), atomic force microscope (AFM), X-ray diffraction (XRD), Rutherford backscattering spectroscopy (RBS), and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Photocatalytic properties of the films were strongly influenced by ion bombardment and deposition temperature. The film with anatase crystalline structure and with high photocatalytic activity was deposited at 120 8C under low energy ion bombardment

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

JK - Koroze a povrchové úpravy materiálu

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/1M0577" target="_blank" >1M0577: Výzkumné centrum pro nanopovrchové inženýrství</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

4

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

"S350"-"S355"

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—