Vylučování otěruvzdorných vrstev SiOx na polykarbonátu s použitím PECVD technologie.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F07%3A%40KMT0109" target="_blank" >RIV/46747885:24210/07:@KMT0109 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Deposition of wear resistant SiOx layers on polycarbonate using the PECVD technology

Popis výsledku v původním jazyce

The development of plazma-chemical methods of production thin layers is stimulated mainlyby the urgent need to decrease temperature during the process of layerproduction usingclassical chemical synthesis, ie. the CVD (Chemical Vapour Deposition). This feature isprovided by physical-chemical methods, when chemical reactions také place in ionizedatmosphere, ie. in plasma. Therefore are these methods utilising plasma for layer productioncalled PECVD methods (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). Inframe of ourwork the PECVD method has been utilised for coating the polycarbonate substrate by SiOxlayer, that serves as a wear protection layer. SiOx layer has been chosen for its opticaltransparency and sufficient wear resistance. The thickness of deposited layers lies between2 _m and 4 _m.Coated as well as non-coated polycarbonate has been tested for wear resistance using theElcometer 1720 device (Abrasion, Scrubbing and Washability Tester).

Název v anglickém jazyce

Deposition of wear resistant SiOx layers on polycarbonate using the PECVD technology

Popis výsledku anglicky

The development of plazma-chemical methods of production thin layers is stimulated mainlyby the urgent need to decrease temperature during the process of layerproduction usingclassical chemical synthesis, ie. the CVD (Chemical Vapour Deposition). This feature isprovided by physical-chemical methods, when chemical reactions také place in ionizedatmosphere, ie. in plasma. Therefore are these methods utilising plasma for layer productioncalled PECVD methods (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). Inframe of ourwork the PECVD method has been utilised for coating the polycarbonate substrate by SiOxlayer, that serves as a wear protection layer. SiOx layer has been chosen for its opticaltransparency and sufficient wear resistance. The thickness of deposited layers lies between2 _m and 4 _m.Coated as well as non-coated polycarbonate has been tested for wear resistance using theElcometer 1720 device (Abrasion, Scrubbing and Washability Tester).

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JH - Keramika, žáruvzdorné materiály a skla

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

International Conference Vacuum and Plasma Surface Engineering

ISBN

978-80-7372-266-1

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

1

Strana od-do

16

Název nakladatele

Technická univerzita v Liberci

Místo vydání

Liberec

Místo konání akce

Hejnice

Datum konání akce

24. 10. 2007

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—