Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Interfacial layer formation during high-temperature deposition of Sm-Co magnetic thin films on Si (100) substrates

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24620%2F19%3A00005752" target="_blank" >RIV/46747885:24620/19:00005752 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0966979518308161" target="_blank" >https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0966979518308161</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.intermet.2018.12.007" target="_blank" >10.1016/j.intermet.2018.12.007</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Interfacial layer formation during high-temperature deposition of Sm-Co magnetic thin films on Si (100) substrates

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The interfacial layer that has formed during the deposition of ∼240-nm thick Sm-Co films on the bare Si (100) substrate was investigated at different deposition temperatures, Td,Sm-Co: 400, 450 and 500 °C with respect to structural and magnetic properties of Sm-Co films. X-ray diffraction analysis showed the crystallization of both Sm2Co17(R) and SmCo5(H) magnetic phases. Rutherford back scattering studies demonstrated that the surface-diffusion reactions between the Sm-Co layer and Si-surface not only accompanied by the quasi-layered growth of CoSi2-phase; but also led to the formation of SmCoSi2-phase. Cross-sectional transmission electron microscopy analysis revealed uneven boundary with deeply grown CoSi2-layer and Moiré fringes at limited regions of Co/Si interface. Magnetic measurements showed a square hysteresis loop with maximum values of coercivity (11.6 kOe) and remanence ratio (0.99) for the films grown at 500 °C. Magnetic force microscopy images depicted patch-like domains with increasing phase contrast against Td,Sm-Co. In addition, the changes that has occurred in the magnetization reversal processes accompanied by coercivity enhancement due to higher Td,Sm-Co is discussed in the context of domain morphology and first-order reversal curves.

  • Název v anglickém jazyce

    Interfacial layer formation during high-temperature deposition of Sm-Co magnetic thin films on Si (100) substrates

  • Popis výsledku anglicky

    The interfacial layer that has formed during the deposition of ∼240-nm thick Sm-Co films on the bare Si (100) substrate was investigated at different deposition temperatures, Td,Sm-Co: 400, 450 and 500 °C with respect to structural and magnetic properties of Sm-Co films. X-ray diffraction analysis showed the crystallization of both Sm2Co17(R) and SmCo5(H) magnetic phases. Rutherford back scattering studies demonstrated that the surface-diffusion reactions between the Sm-Co layer and Si-surface not only accompanied by the quasi-layered growth of CoSi2-phase; but also led to the formation of SmCoSi2-phase. Cross-sectional transmission electron microscopy analysis revealed uneven boundary with deeply grown CoSi2-layer and Moiré fringes at limited regions of Co/Si interface. Magnetic measurements showed a square hysteresis loop with maximum values of coercivity (11.6 kOe) and remanence ratio (0.99) for the films grown at 500 °C. Magnetic force microscopy images depicted patch-like domains with increasing phase contrast against Td,Sm-Co. In addition, the changes that has occurred in the magnetization reversal processes accompanied by coercivity enhancement due to higher Td,Sm-Co is discussed in the context of domain morphology and first-order reversal curves.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20501 - Materials engineering

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2019

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Intermetallics

  • ISSN

    0966-9795

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    106

  • Číslo periodika v rámci svazku

    March

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    12

  • Strana od-do

    36-47

  • Kód UT WoS článku

    000457815700006

  • EID výsledku v databázi Scopus