Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition).

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49610040%3A_____%2F13%3A%2A0000111" target="_blank" >RIV/49610040:_____/13:*0000111 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition).

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition), která v sobě zahrnuje možnost plazmochemického čištění povrchu s následným naprášením tenké vrstvy. Proces bude uskutečňován v jednom pracovním cyklu. Hlavní předností technologie je vysoká homogenita nanášených vrstev, procesní variabilita a velmi dobrá kontrolovatelnost depozice.

  • Název v anglickém jazyce

    Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition).

  • Popis výsledku anglicky

    Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition), which implies the possibility of plasma surface cleaning followed by sputtering a thin layer. The process will be carried out in one operation. A main advantage of the technology is a high homogenity of deposited layers, process variability and very good controllability of deposition.

Klasifikace

  • Druh

    Z<sub>tech</sub> - Ověřená technologie

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/FR-TI1%2F603" target="_blank" >FR-TI1/603: Implementace efektivní technologie nanášení tenkých pasivačních a antireflexních vrstev do výroby krystalických solárních článků</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2013

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    1-01-024

  • Číselná identifikace

  • Technické parametry

    Ověřená technologie byla realizována za pomoci modifikovaného depozičního zařízení pracujícího na principu depozice z pevné fáze (PVD). Výsledek slouží k vlastnímu využití a byla podepsána Smlouva o využití výsledků výzkumu a vývoje 2012/FR-TI1/603, s MPO ze dne 26.3.2013 . Kontaktní osoba: Ing. Renáta Zetková, tel: 601375825, email: renata.zetkova@solartec.cz

  • Ekonomické parametry

    Ověřená technologie bude využita realizátorem výsledku při řešení komerčních zakázek na výrobu zákaznických solárních článků a FV modulů. Dále bude technologie využita realizátorem pro vývoj nových pokročilých technologií výroby solárních článků s vysokou konverzní účinností.

  • Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

  • IČO vlastníka výsledku

    49610040

  • Název vlastníka

    Solartec s.r.o.

  • Stát vlastníka

    CZ - Česká republika

  • Druh možnosti využití

    P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

  • Požadavek na licenční poplatek

    Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek

  • Adresa www stránky s výsledkem