Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Control of structure in magnetron sputtered thin film

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F01%3A00064893" target="_blank" >RIV/49777513:23520/01:00064893 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Control of structure in magnetron sputtered thin film

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The paper describes two methods which can be used to control the film structure: (1) the energy delivered to the growing film, i.e. (i) substrate heating and (ii) ion bombardment; and (2) the interlayer inserted between the substrate and the film. Thesemethods were tested on Cu and Zr-Y-N films and Cu and Cr-Ni-N films used as interlayers. It was found that both methods can improve the crystallinity of sputter deposited films. Dependences of the film structure on substrate temperature, negative substrate bias and substrate ion current density are given. The effect of the interlayer on the structure of the deposited film is also clearly demonstrated.

  • Název v anglickém jazyce

    Control of structure in magnetron sputtered thin film

  • Popis výsledku anglicky

    The paper describes two methods which can be used to control the film structure: (1) the energy delivered to the growing film, i.e. (i) substrate heating and (ii) ion bombardment; and (2) the interlayer inserted between the substrate and the film. Thesemethods were tested on Cu and Zr-Y-N films and Cu and Cr-Ni-N films used as interlayers. It was found that both methods can improve the crystallinity of sputter deposited films. Dependences of the film structure on substrate temperature, negative substrate bias and substrate ion current density are given. The effect of the interlayer on the structure of the deposited film is also clearly demonstrated.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2001

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    02578972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    Vol. 142

  • Číslo periodika v rámci svazku

    leden

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus