Plasma nitriding of titanium coatings prepared by magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000134" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000134 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Plasma nitriding of titanium coatings prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
The main problem in a dc reactive magnetron sputtering is target poisoning. If we prevent the metal target before its covering by a reaction product we can expect an enhancement of a deposition rate. For bulk materials, it is known that a diffusion coefficient of nitrogen is about 3-4 orders higher in a high-temperature cubic compared with that of a low-temperaturehexagonal. The diffusion of nitrogen into the titanium target be strongly reduced if the target surface is covered by titanium nitride.
Název v anglickém jazyce
Plasma nitriding of titanium coatings prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
The main problem in a dc reactive magnetron sputtering is target poisoning. If we prevent the metal target before its covering by a reaction product we can expect an enhancement of a deposition rate. For bulk materials, it is known that a diffusion coefficient of nitrogen is about 3-4 orders higher in a high-temperature cubic compared with that of a low-temperaturehexagonal. The diffusion of nitrogen into the titanium target be strongly reduced if the target surface is covered by titanium nitride.

Projekt
<a href="/cs/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostrukturní tenké vrstvy</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)