Low-stress superhard Ti-B prepared by magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000138" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000138 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Low-stress superhard Ti-B prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on structure and mechanical properties of Ti-B alloy films sputter deposited from a sintered TiB2 target using and unbalanced dc magnetron. We present results of systamatic investigation of the effect of negative substrate bias Us, substrate ion current density is, and substrate temperature Ts, on properties of Ti-B films. The X-ray diffraction analysis shows that Ti-B films consist of the hexagonal TiB2 phase with the typical texture only.
Název v anglickém jazyce
Low-stress superhard Ti-B prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
The article reports on structure and mechanical properties of Ti-B alloy films sputter deposited from a sintered TiB2 target using and unbalanced dc magnetron. We present results of systamatic investigation of the effect of negative substrate bias Us, substrate ion current density is, and substrate temperature Ts, on properties of Ti-B films. The X-ray diffraction analysis shows that Ti-B films consist of the hexagonal TiB2 phase with the typical texture only.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/ME%20173" target="_blank" >ME 173: Magnetronové napracování tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)