Struktura a mechanické vlastnosti vrstev TiC/Cu připravených DC magnetronovým naprašováním

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000087" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000087 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Structure and mechanical properties of DC magnetron sputtered Ti/Cu films

Popis výsledku v původním jazyce

TiC/Cu nanocomposite films with various copper content were deposited by DC unbalanced magnetron sputtering from sintered TiC target fixed by Cu rings of different inner diameters in pure argon. This makes it possible to prepare TiC/Cu films with Cu content ranging from approximately 5 to 85 at% Cu. The structure and mechanical properties were examined as a function of deposition parameters and Cu content in the film. Special attention is devoted to the total internal stress, parameters determining itsmagnitude and their correlation with mechanical properties. The TiC/Cu system is compared with similar nitride MeNx/Cu(Ni) (Me=Ti,Zr) systems and explanation of the different behavior of nitride and carbide systems is proposed.

Název v anglickém jazyce

Structure and mechanical properties of DC magnetron sputtered Ti/Cu films

Popis výsledku anglicky

TiC/Cu nanocomposite films with various copper content were deposited by DC unbalanced magnetron sputtering from sintered TiC target fixed by Cu rings of different inner diameters in pure argon. This makes it possible to prepare TiC/Cu films with Cu content ranging from approximately 5 to 85 at% Cu. The structure and mechanical properties were examined as a function of deposition parameters and Cu content in the film. Special attention is devoted to the total internal stress, parameters determining itsmagnitude and their correlation with mechanical properties. The TiC/Cu system is compared with similar nitride MeNx/Cu(Ni) (Me=Ti,Zr) systems and explanation of the different behavior of nitride and carbide systems is proposed.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Vacuum

ISSN

0042-207X

e-ISSN

—

Svazek periodika

—

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

531

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—