Vysokoteplotní oxidační odolnost vrstev Ta-Si-N s vysokým obsahem Si
Popis výsledku
Vysokoteplotní oxidační odolnost vrstev Ta-Si-N s vysokým obsahem Si připravených reaktivním magnetronovým naprašováním byla studována pomocí vysokorozlišovací termogravimetrie v proudícím vzduchu do teploty 1300°C. Výsledky ukázaly výbornou oxidační odolnost vrstev až do 1300°C. Neptrná oxiadce je spojena s vytvořením tenké povrchové vrstvy bránící další oxidaci objemu vrstvy.
Klíčová slova
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
Nalezeny alternativní kódy
RIV/49777513:23520/06:00000087
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
High-temperature oxidation resistance of Ta-Si-N films with a high Si content
Popis výsledku v původním jazyce
The high-temperature oxidation resistance of ternary Ta-Si-N films with a high Si content deposited by reactive dc magnetron sputtering on silicon substrates was systematically investigated by means of a symmetrical high-resolution thermogravimetry in aflowing air up to an annealing temperature of 1300°C. Additional analyses including optical microscopy, scanning electron microscopy, X-ray diffraction and the microhardness measurement were carried out as well
Název v anglickém jazyce
High-temperature oxidation resistance of Ta-Si-N films with a high Si content
Popis výsledku anglicky
The high-temperature oxidation resistance of ternary Ta-Si-N films with a high Si content deposited by reactive dc magnetron sputtering on silicon substrates was systematically investigated by means of a symmetrical high-resolution thermogravimetry in aflowing air up to an annealing temperature of 1300°C. Additional analyses including optical microscopy, scanning electron microscopy, X-ray diffraction and the microhardness measurement were carried out as well
Klasifikace
Druh
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
GP106/03/D009: Reaktivní depozice a charakterizace tenkých vrstev na bázi nových sloučenin
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Surface and Coatings Technology
ISSN
0257-8972
e-ISSN
—
Svazek periodika
—
Číslo periodika v rámci svazku
—
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
4091
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—
Základní informace
Druh výsledku
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Rok uplatnění
2006