Vliv křemíku, kyslíku a dusíku na vlastnosti plazmou deponovaných amorfních DLC vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000486" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000486 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Influence of silicon, oxygen and nitrogen admixtures upon the properties of plasma deposited amorphous diamond-like carbon coatings
Popis výsledku v původním jazyce
Amorphous diamond-like carbon films (DLC) with various silicon, oxygen and nitrogen content were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. A combination of RBS, ERDA, FTIR and XPS methods was used to study the films´ chemical composition and structure. The mechanical properties were studied using a depth sensing indentation technique.
Název v anglickém jazyce
Influence of silicon, oxygen and nitrogen admixtures upon the properties of plasma deposited amorphous diamond-like carbon coatings
Popis výsledku anglicky
Amorphous diamond-like carbon films (DLC) with various silicon, oxygen and nitrogen content were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. A combination of RBS, ERDA, FTIR and XPS methods was used to study the films´ chemical composition and structure. The mechanical properties were studied using a depth sensing indentation technique.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
JJ - Ostatní materiály
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)