Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

PREPARATION OF PPHMDSO THIN FILMS IN CAPACITIVELY COUPLED RF GLOW DISCHARGES UNDER DUSTY PLASMA CONDITIONS

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F18%3A00108254" target="_blank" >RIV/00216224:14310/18:00108254 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://invenio.nusl.cz/record/387685" target="_blank" >https://invenio.nusl.cz/record/387685</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    PREPARATION OF PPHMDSO THIN FILMS IN CAPACITIVELY COUPLED RF GLOW DISCHARGES UNDER DUSTY PLASMA CONDITIONS

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The deposition of organosilicone thin films from mixture of hexamethyldisiloxane (HMDSO) and oxygen by using capacitively coupled R.F. glow discharges under dusty plasma conditions was investigated. High resolution topography and mechanical property maps of the prepared films were acquired by using atomic force microscopy techniques. The chemical bond and composition of the deposited films were analyzed by Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The mechanical properties of the films were studied using quasistatic as well as dynamic nanoindentation tests and their surface free energies were evaluated by means of contact angle measuring technique using several testing liquids exhibiting various surface tensions. The thermal stability of the films was studied using thermal desorption spectroscopy. Neural network modelling was used to study the effect of plasma parameters on the hardness of ppHMDSO films.

  • Název v anglickém jazyce

    PREPARATION OF PPHMDSO THIN FILMS IN CAPACITIVELY COUPLED RF GLOW DISCHARGES UNDER DUSTY PLASMA CONDITIONS

  • Popis výsledku anglicky

    The deposition of organosilicone thin films from mixture of hexamethyldisiloxane (HMDSO) and oxygen by using capacitively coupled R.F. glow discharges under dusty plasma conditions was investigated. High resolution topography and mechanical property maps of the prepared films were acquired by using atomic force microscopy techniques. The chemical bond and composition of the deposited films were analyzed by Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The mechanical properties of the films were studied using quasistatic as well as dynamic nanoindentation tests and their surface free energies were evaluated by means of contact angle measuring technique using several testing liquids exhibiting various surface tensions. The thermal stability of the films was studied using thermal desorption spectroscopy. Neural network modelling was used to study the effect of plasma parameters on the hardness of ppHMDSO films.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    21000 - Nano-technology

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOMATERIALS - RESEARCH &amp; APPLICATION (NANOCON 2017)

  • ISBN

    9788087294819

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    831-835

  • Název nakladatele

    TANGER LTD

  • Místo vydání

    SLEZSKA

  • Místo konání akce

    Brno, CZECH REPUBLIC

  • Datum konání akce

    18. 10. 2017

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000452823300138