Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Structural and defect changes of hydrogenated SiGe films due to annealing up to 600°C

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F10%3A00040517" target="_blank" >RIV/00216224:14310/10:00040517 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Structural and defect changes of hydrogenated SiGe films due to annealing up to 600°C

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In order to better understand the effects of the hydrogen incorporation on the defects and the disorder in the undoped nano/microcrystalline SiGe:H, we performed a comparative study on samples deposited under different plasma conditions. With variation of the pressure, we were able to change the structure of SiGe:H films. We have used the combination of the infrared spectroscopy, CPM, PDS and thermal desorption measurements to study the thermal dependence of defect density, disorder, as well as hydrogenconcentration. The film mechanical properties were tested by depth sensing indentation technique. The results showing a different hydrogen bonding with the change of deposition conditions are interpreted as a whole by terms of the specific local hydrogen bonding environment, related to different growth mechanism.

  • Název v anglickém jazyce

    Structural and defect changes of hydrogenated SiGe films due to annealing up to 600°C

  • Popis výsledku anglicky

    In order to better understand the effects of the hydrogen incorporation on the defects and the disorder in the undoped nano/microcrystalline SiGe:H, we performed a comparative study on samples deposited under different plasma conditions. With variation of the pressure, we were able to change the structure of SiGe:H films. We have used the combination of the infrared spectroscopy, CPM, PDS and thermal desorption measurements to study the thermal dependence of defect density, disorder, as well as hydrogenconcentration. The film mechanical properties were tested by depth sensing indentation technique. The results showing a different hydrogen bonding with the change of deposition conditions are interpreted as a whole by terms of the specific local hydrogen bonding environment, related to different growth mechanism.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/KAN311610701" target="_blank" >KAN311610701: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie</a><br>

  • Návaznosti

    V - Vyzkumna aktivita podporovana z jinych verejnych zdroju

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    physica status solidi (c)

  • ISSN

    1610-1642

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    7/2010

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3-4

  • Stát vydavatele periodika

    DE - Spolková republika Německo

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus