Strukturální změny plazmově deponovaných tenkých vrstev SiOxCyHz tepelně zatížených žíháním
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F04%3A00105672" target="_blank" >RIV/61389005:_____/04:00105672 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/00216224:14310/04:00021214
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing
Popis výsledku v původním jazyce
The objective of the present work was to investigate the influence of thermal annealing on the optical and mechanical properties as well as on the chemical structure of plasma deposited SiOxCyHz films. The films were prepared by PECVD from HMDSO/oxygen mixtures under a wide range of deposition conditions. Their optical and mechanical properties were studied by spectroscopic ellipsometry and depth sensing indentation technique, respectively. The atomic composition was determined by RBS and ERDA measurements. FTIR analysis was used to find the densities of particular chemical bonds in the films. The annealed films exhibited changes of the refractive index and extinction coefficient. The refractive index always decreased with increasing annealing temperature. The observed increase in hardness and elastic modulus after annealing was probably correlated with dehydration of the films and an increase of Si-O-Si bonds with increasing annealing temperature.
Název v anglickém jazyce
Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing
Popis výsledku anglicky
The objective of the present work was to investigate the influence of thermal annealing on the optical and mechanical properties as well as on the chemical structure of plasma deposited SiOxCyHz films. The films were prepared by PECVD from HMDSO/oxygen mixtures under a wide range of deposition conditions. Their optical and mechanical properties were studied by spectroscopic ellipsometry and depth sensing indentation technique, respectively. The atomic composition was determined by RBS and ERDA measurements. FTIR analysis was used to find the densities of particular chemical bonds in the films. The annealed films exhibited changes of the refractive index and extinction coefficient. The refractive index always decreased with increasing annealing temperature. The observed increase in hardness and elastic modulus after annealing was probably correlated with dehydration of the films and an increase of Si-O-Si bonds with increasing annealing temperature.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BG - Jaderná, atomová a molekulová fyzika, urychlovače
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2004
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Czechoslovak Journal od Physics
ISSN
0011-4626
e-ISSN
—
Svazek periodika
54
Číslo periodika v rámci svazku
9
Stát vydavatele periodika
CZ - Česká republika
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—