Vysoko-výkonové pulzní magnetronové naprašování TiN vrstev a jejich mechanické vlastnosti

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000064" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000064 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/49777513:23520/07:00000065

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

High-power pulsed magnetron sputtering of TiN films and their mechanical properties

Popis výsledku v původním jazyce

High-power pulsed reactive magnetron deposition of TiN films was investigated. The repetition frequency was 10kHz at a fixed 20% duty cycle and total gas pressure of 1 Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured in a 90% Ar+10%N2 gas mixture at a target power density in a pulse up to 460W/cm2. Time-averaged mass spectroscopy was performed at a substrate position. It was shown that argon ions are strongly dominant in total ion fluxes onto the substrate. With an increase in the target power density, the ion energy distributions were more extended to higher energies. The increasing ion energies and fluxes, together with the increase in the ratio, resulted in changes in structure and mechanical properties of the prepared TiN films.

Název v anglickém jazyce

High-power pulsed magnetron sputtering of TiN films and their mechanical properties

Popis výsledku anglicky

High-power pulsed reactive magnetron deposition of TiN films was investigated. The repetition frequency was 10kHz at a fixed 20% duty cycle and total gas pressure of 1 Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured in a 90% Ar+10%N2 gas mixture at a target power density in a pulse up to 460W/cm2. Time-averaged mass spectroscopy was performed at a substrate position. It was shown that argon ions are strongly dominant in total ion fluxes onto the substrate. With an increase in the target power density, the ion energy distributions were more extended to higher energies. The increasing ion energies and fluxes, together with the increase in the ratio, resulted in changes in structure and mechanical properties of the prepared TiN films.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: Nové zdroje plazmatu pro vytváření tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

XXVIII International conference on phenomena in ionized gases

ISBN

978-80-87026-01-4

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

794-796

Název nakladatele

Institute of Plasma Physics AS CR

Místo vydání

Prague

Místo konání akce

Praha

Datum konání akce

1. 1. 2007

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—