Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Charakterizace iontových toků ve vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojích

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000061" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000061 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Ion flux characteristics in high-power pulsed magnetron sputtering discharges

  • Popis výsledku v původním jazyce

    High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of copper films were investigated. The repetition frequency was 1kHz at a fixed 20% duty cycle and argon pressures of 0.5Pa and 5Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured at a target power density in a pulse up to 950W/cm2. Time-averaged mass spectroscopy was performed at substrate positions. It was shown that copper ions are strongly dominant in total ion fluxes onto the substrate. Their energy distributions with a broadened low-energy part at a lower pressure are extended to higher energies (up to 45eV relative to ground potential for the target-to-substrate distance of 100mm).

  • Název v anglickém jazyce

    Ion flux characteristics in high-power pulsed magnetron sputtering discharges

  • Popis výsledku anglicky

    High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of copper films were investigated. The repetition frequency was 1kHz at a fixed 20% duty cycle and argon pressures of 0.5Pa and 5Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured at a target power density in a pulse up to 950W/cm2. Time-averaged mass spectroscopy was performed at substrate positions. It was shown that copper ions are strongly dominant in total ion fluxes onto the substrate. Their energy distributions with a broadened low-energy part at a lower pressure are extended to higher energies (up to 45eV relative to ground potential for the target-to-substrate distance of 100mm).

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Europhysics Letters

  • ISSN

    0295-5075

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

  • Číslo periodika v rámci svazku

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    1

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus