Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Optical emission spectroscopy and energy-resolved mass spectroscopy in pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00070767" target="_blank" >RIV/49777513:23520/02:00070767 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Optical emission spectroscopy and energy-resolved mass spectroscopy in pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The paper deals with pulsed dc magnetron discharges proposed for ionized and high-rate sputtering of thin films. Time-resolved optical emission spectroscopy was used to characterize the ionization degree of copper (target) and argon (working gas) atoms,and the relative density of copper atoms in front of a sputtered copper target and in a plasma bulk during pulses. Energy-resolved mass spetroscopy with time resolution was carried out in front of a substrate to investigate the energy distribution of copper and argon ions, and their fractions in ion fluxes on the grounded substrate.

  • Název v anglickém jazyce

    Optical emission spectroscopy and energy-resolved mass spectroscopy in pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    The paper deals with pulsed dc magnetron discharges proposed for ionized and high-rate sputtering of thin films. Time-resolved optical emission spectroscopy was used to characterize the ionization degree of copper (target) and argon (working gas) atoms,and the relative density of copper atoms in front of a sputtered copper target and in a plasma bulk during pulses. Energy-resolved mass spetroscopy with time resolution was carried out in front of a substrate to investigate the energy distribution of copper and argon ions, and their fractions in ion fluxes on the grounded substrate.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ME%20203" target="_blank" >ME 203: Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2002

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Optical emission spectroscopy and energy-resolved mass spectroscopy in pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering

  • ISBN

    0953910512

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    92

  • Název nakladatele

    University of Liverpool

  • Místo vydání

    Liverpool

  • Místo konání akce

    Liverpool

  • Datum konání akce

    1. 1. 2002

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku