Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Optical emission spectroscopy during the deposition of zirconium dioxide films by controlled reactive high-power impulse magnetron sputtering

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F17%3A43931481" target="_blank" >RIV/49777513:23520/17:43931481 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4977822" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1063/1.4977822</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4977822" target="_blank" >10.1063/1.4977822</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Optical emission spectroscopy during the deposition of zirconium dioxide films by controlled reactive high-power impulse magnetron sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Time-resolved optical emission spectroscopy was performed near the sputtered Zr target and in a plasma bulk during a controlled high-rate reactive high-power impulse magnetron sputtering of stoichiometric ZrO2 films in argon-oxygen gas mixtures at the argon pressure of 2 Pa. The repetition frequency was 500 Hz at the deposition-averaged target power density of 52 W/cm^2 with a peak target power density of 1100 W/cm^2. The voltage pulse duration was 200 µs. From the time evolutions of the excited-state populations for the chosen atoms (Zr, Ar, and O) and ions (Zr+, Zr2+, Ar+, and O+), and of the excitation temperature during a voltage pulse, the trends in a time evolution of the local ground-state densities of these atoms and ions during the voltage pulse were derived. Near the target, a decrease in the ground-state densities of Ar and O atoms, caused by a gas rarefaction and intense electron-impact ionization, was observed in the first half of the voltage pulse. Simultaneous, very effective electron-impact ionization of sputtered Zr atoms was proved. A composition of particle fluxes onto the substrate during a film deposition was found almost independent of the instantaneous oscillating oxygen partial pressure.

  • Název v anglickém jazyce

    Optical emission spectroscopy during the deposition of zirconium dioxide films by controlled reactive high-power impulse magnetron sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    Time-resolved optical emission spectroscopy was performed near the sputtered Zr target and in a plasma bulk during a controlled high-rate reactive high-power impulse magnetron sputtering of stoichiometric ZrO2 films in argon-oxygen gas mixtures at the argon pressure of 2 Pa. The repetition frequency was 500 Hz at the deposition-averaged target power density of 52 W/cm^2 with a peak target power density of 1100 W/cm^2. The voltage pulse duration was 200 µs. From the time evolutions of the excited-state populations for the chosen atoms (Zr, Ar, and O) and ions (Zr+, Zr2+, Ar+, and O+), and of the excitation temperature during a voltage pulse, the trends in a time evolution of the local ground-state densities of these atoms and ions during the voltage pulse were derived. Near the target, a decrease in the ground-state densities of Ar and O atoms, caused by a gas rarefaction and intense electron-impact ionization, was observed in the first half of the voltage pulse. Simultaneous, very effective electron-impact ionization of sputtered Zr atoms was proved. A composition of particle fluxes onto the substrate during a film deposition was found almost independent of the instantaneous oscillating oxygen partial pressure.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA14-03875S" target="_blank" >GA14-03875S: Nanostrukturní multifunkční povlaky připravené užitím silně ionizovaného pulzního plazmatu</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Applied Physics

  • ISSN

    0021-8979

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    121

  • Číslo periodika v rámci svazku

    17

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    11

  • Strana od-do

    „171908-1“-„171908-11“

  • Kód UT WoS článku

    000400623700010

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85014919923