Vysokovýkonové pulzní naprašování pomocí magnetronu se zesíleným omezením plazmatu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000241" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000241 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/49777513:23520/07:00000242

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

High-power pulsed sputtering using a magnetron with enhanced plasma confinement

Popis výsledku v původním jazyce

High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films were systematically investigated. The depositions were performed using two unbalanced circular magnetrons of different types with a directly water-cooled planarcopper target of 100mm in diameter. The repetition frequency was 1kHz at a fixed 20% duty cycle and an argon pressure of 0.5Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured to provide information on absorption of energy in the dischargeplasma and on transfer of arising ions to the substrate at a target power density in a pulse up to 950 W/cm2.

Název v anglickém jazyce

High-power pulsed sputtering using a magnetron with enhanced plasma confinement

Popis výsledku anglicky

High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films were systematically investigated. The depositions were performed using two unbalanced circular magnetrons of different types with a directly water-cooled planarcopper target of 100mm in diameter. The repetition frequency was 1kHz at a fixed 20% duty cycle and an argon pressure of 0.5Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured to provide information on absorption of energy in the dischargeplasma and on transfer of arising ions to the substrate at a target power density in a pulse up to 950 W/cm2.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: Nové zdroje plazmatu pro vytváření tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Svazek periodika

—

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

42

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—