Houževnatost tvrdých nanostrukturních keramických tenkých vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000169" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000169 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Toughness of hard nanostructured ceramic thin films
Popis výsledku v původním jazyce
This article reports on the investigation of cracking of hard Zr-Cu-O, Zr-Cu-C, Ti-Cu-C and Si-Me-N magnetron sputtered nanostructured films using microindentation measurements. Main aim of this investigation is to determine the interrelationships between the cracking of film, its structure and mechanical properties and to assess the toughness of thin films. Correlations between the formation of cracks, the mechanical properties of film and substrate, structure of film and macrostress generated in the film during its growth were investigated in detail.
Název v anglickém jazyce
Toughness of hard nanostructured ceramic thin films
Popis výsledku anglicky
This article reports on the investigation of cracking of hard Zr-Cu-O, Zr-Cu-C, Ti-Cu-C and Si-Me-N magnetron sputtered nanostructured films using microindentation measurements. Main aim of this investigation is to determine the interrelationships between the cracking of film, its structure and mechanical properties and to assess the toughness of thin films. Correlations between the formation of cracks, the mechanical properties of film and substrate, structure of film and macrostress generated in the film during its growth were investigated in detail.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)