Vliv přidání Cu do ZrOx vrstvy na její vlastnosti

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000263" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000263 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Effect of addition of Cu into ZrOx film on its properties
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on the effect of addition of Cu into the ZrO2 film on its structure, physical and mechanical properties. The ZrO2 and Zr-Cu-O films were reactively sputtered using a dc unbalanced magnetron from Zr and ZrCu targets in Ar+O2 mixture atthe substrate temperature Ts=300, 400 and 550 °C and total sputtering gas pressure on steel, Si and glass substrates. The structure of films was chracterized by an X-ray diffraction and mechanical properties. The film brittleness was characterized by the formation of cracks during a diamond indenter impression into it.
Název v anglickém jazyce
Effect of addition of Cu into ZrOx film on its properties
Popis výsledku anglicky
The article reports on the effect of addition of Cu into the ZrO2 film on its structure, physical and mechanical properties. The ZrO2 and Zr-Cu-O films were reactively sputtered using a dc unbalanced magnetron from Zr and ZrCu targets in Ar+O2 mixture atthe substrate temperature Ts=300, 400 and 550 °C and total sputtering gas pressure on steel, Si and glass substrates. The structure of films was chracterized by an X-ray diffraction and mechanical properties. The film brittleness was characterized by the formation of cracks during a diamond indenter impression into it.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)