Effect of the target power density on high power impulse magnetron sputtering of copper

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F12%3A43914807" target="_blank" >RIV/49777513:23520/12:43914807 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/21/2/025012" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/21/2/025012</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/21/2/025012" target="_blank" >10.1088/0963-0252/21/2/025012</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Effect of the target power density on high power impulse magnetron sputtering of copper

Popis výsledku v původním jazyce

We present a model analysis of a high power impulse magnetron sputtering of copper. We use a non-stationary global model based on the particle and energy conservation equations in two zones, which makes it possible to calculate time evolutions of the averaged process gas and target material neutral and ion densities, as well as the fluxes of these particles to the target and substrate during a pulse period. We study the effect of the increasing target power density under conditions corresponding to a real experimental system. The calculated target current waveforms show a long steady state and are in a good agreement with the experimental results. For an increasing target power density, an analysis of the particle densities shows a gradual transition to a metal dominated discharge plasma with an increasing degree of ionization of the depositing flux.

Název v anglickém jazyce

Effect of the target power density on high power impulse magnetron sputtering of copper

Popis výsledku anglicky

We present a model analysis of a high power impulse magnetron sputtering of copper. We use a non-stationary global model based on the particle and energy conservation equations in two zones, which makes it possible to calculate time evolutions of the averaged process gas and target material neutral and ion densities, as well as the fluxes of these particles to the target and substrate during a pulse period. We study the effect of the increasing target power density under conditions corresponding to a real experimental system. The calculated target current waveforms show a long steady state and are in a good agreement with the experimental results. For an increasing target power density, an analysis of the particle densities shows a gradual transition to a metal dominated discharge plasma with an increasing degree of ionization of the depositing flux.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/OC10045" target="_blank" >OC10045: Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY

ISSN

0963-0252

e-ISSN

—

Svazek periodika

21

Číslo periodika v rámci svazku

2

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

12

Strana od-do

025012-025023

Kód UT WoS článku

000302779400026

EID výsledku v databázi Scopus

—