16th International Conference on Reactive Sputter Deposition (RSD 2017)

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F17%3A43949774" target="_blank" >RIV/49777513:23520/17:43949774 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://rsd2017.zcu.cz/program/.content/Program_Abstracts_RSD2017.pdf" target="_blank" >http://rsd2017.zcu.cz/program/.content/Program_Abstracts_RSD2017.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

16th International Conference on Reactive Sputter Deposition (RSD 2017)

Popis výsledku v původním jazyce

The International Conference on Reactive Sputter Deposition (RSD) was established by the DRAFT research group at the Ghent University in 2000. Since the beginning the conference has provided a platform among leading international scientists, engineers and students for a discussion of recent achievements in reactive sputter deposition. The conference has developed over time to an annual tradition, steadily growing without losing its focus on reactive sputtering and its fundamental aspects. The 16th International Conference on Reactive Sputter Deposition is focused on the following topics related to reactive sputter deposition: A. Plasma processes, plasma–surface interactions and thin film growth; B. Films with controlled microstructure and functional properties; C. Advanced protective coatings; D. Applied research and industrial applications.

Název v anglickém jazyce

16th International Conference on Reactive Sputter Deposition (RSD 2017)

Popis výsledku anglicky

The International Conference on Reactive Sputter Deposition (RSD) was established by the DRAFT research group at the Ghent University in 2000. Since the beginning the conference has provided a platform among leading international scientists, engineers and students for a discussion of recent achievements in reactive sputter deposition. The conference has developed over time to an annual tradition, steadily growing without losing its focus on reactive sputtering and its fundamental aspects. The 16th International Conference on Reactive Sputter Deposition is focused on the following topics related to reactive sputter deposition: A. Plasma processes, plasma–surface interactions and thin film growth; B. Films with controlled microstructure and functional properties; C. Advanced protective coatings; D. Applied research and industrial applications.

Druh

M - Uspořádání konference

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Místo konání akce

Plzeň

Stát konání akce

CZ - Česká republika

Datum zahájení akce

—

Datum ukončení akce

—

Celkový počet účastníků

123

Počet zahraničních účastníků

70

Typ akce podle státní přísl. účastníků

WRD - Celosvětová akce