Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

On bipolar HiPIMS pulse configurations to enhance energy and ion flux to insulating substrates

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F24%3A43973133" target="_blank" >RIV/49777513:23520/24:43973133 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    On bipolar HiPIMS pulse configurations to enhance energy and ion flux to insulating substrates

  • Popis výsledku v původním jazyce

    High-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) offers enhanced ionization for thin film deposition but struggles with low-energy ions. Bipolar HiPIMS, using alternating negative and positive pulses, presents a potential solution, especially for films on insulating substrates where surface charging is an issue. This study investigates optimizing bipolar HiPIMS pulse configurations, comparing unipolar and multi-pulse setups under different magnetic fields. Results show that bipolar HiPIMS introduces a high-energy ion peak, with the multi-pulse configuration broadening this peak and affecting film structure, despite a slight reduction in ion flux. Time-resolved measurements further highlight the evolution of energetic ion flux.

  • Název v anglickém jazyce

    On bipolar HiPIMS pulse configurations to enhance energy and ion flux to insulating substrates

  • Popis výsledku anglicky

    High-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) offers enhanced ionization for thin film deposition but struggles with low-energy ions. Bipolar HiPIMS, using alternating negative and positive pulses, presents a potential solution, especially for films on insulating substrates where surface charging is an issue. This study investigates optimizing bipolar HiPIMS pulse configurations, comparing unipolar and multi-pulse setups under different magnetic fields. Results show that bipolar HiPIMS introduces a high-energy ion peak, with the multi-pulse configuration broadening this peak and affecting film structure, despite a slight reduction in ion flux. Time-resolved measurements further highlight the evolution of energetic ion flux.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2024

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů