Litografické masky pro přípravu mikroelektrochemických senzorů

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F12%3A43917670" target="_blank" >RIV/49777513:23640/12:43917670 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Litografické masky pro přípravu mikroelektrochemických senzorů

Popis výsledku v původním jazyce

Prezentujeme litografické masky pro přípravu různých typů mikroelektrochemických senzorů. Litografická maska je 4" skleněný substrát s deponovanou tenkou vrstvou (0,1 ?m) nízko reflektivního chromu (reflektivita: 12 +- 2 %). Nízká reflektivita chromu umožňuje použití automatického zaostřování při expozici na bezmaskovém litografickém systému LW405B, založeného na vyhodnocení velikosti difrakčních prstenců. Do této chromové vrstvy je litograficky strukturován požadovaný vzor mikroelektrodového pole. Takto vyrobená maska je dále využívána jako předloha pro UV litografii v procesu výroby zlatých mikroelektrodových polí, které jsou klíčovou součástí mikroelektrochemických senzorů. Prezentovaná maska byla použita při výrobě mikroelektrodového pole senzoru pro detekci segmentovaného toku.

Název v anglickém jazyce

Lithographic masks for manufacturing of microelectrochemical sensors

Popis výsledku anglicky

We present the lithography masks for manufacturing of various types of microelectrochemical sensors. Lithographic mask is a 4" soda lime glass substrate with sputtered thin layer (0,1 ?m) of low reflective chromium (reflectivity: 12 +- 2 %). Low reflectivity of chromium enables the utilization of automatic focusing during exposure on maskless lithographic system LW405B, which is based on closed-loop evaluation of the size of diffraction rings. Into the chromium layer the desired pattern of the microelectrode field is structured. The manufactured mask is further used in UV lithography in process, during the production of gold microelectrode field, which is the key component of the microelectrochemical sensors. The presented mask was used during the production of slug-flow detection sensor.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

CI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0088" target="_blank" >ED2.1.00/03.0088: Centrum nových technologií a materiálů (CENTEM)</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

NTC-FVZ-12-019

Číselná identifikace

—

Technické parametry

4" skleněná maska pokrytá tenkou vrstvou chromu (0,1 ? m). V chromové vrstvě je vyleptán vzor mikroelektrodového pole skládající se z 14 párů mikroelektrod o šířce 100 ?m a rozestupem 100 ?m. Adolf Bláha, Západočeská univerzita v Plzni (IČO 49777513), Nové technologie - výzkumné centrum, Univerzitní 8, 306 14 Plzeň, 377634714, blahaado@ntc.zcu.cz. Viz odkaz http://www.ntc.zcu.cz/vysledky/fv/NTC-FVZ-12-019.html

Ekonomické parametry

Výsledek je využíván příjemcem Západočeská univerzita v Plzni (IČO 49777513), ekonomické parametry se neuvádí.

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

49777513

Název vlastníka

Západočeská univerzita v Plzni

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

Požadavek na licenční poplatek

—

Adresa www stránky s výsledkem

—