Finite-thickness effect on crystallization kinetics in thin films and its adaptation in the Johnson-Mehl-Avrami-Kolmogorov model
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F14%3A43922004" target="_blank" >RIV/49777513:23640/14:43922004 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4862858" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1063/1.4862858</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4862858" target="_blank" >10.1063/1.4862858</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Finite-thickness effect on crystallization kinetics in thin films and its adaptation in the Johnson-Mehl-Avrami-Kolmogorov model
Popis výsledku v původním jazyce
The Johnson-Mehl-Avrami-Kolmogorov (JMAK) model is widely used to quantify the isothermal crystallization kinetics. The present work reports an analytical solution for the crystallization kinetics in the special case of plate-shaped samples with a finitethickness. As a result, we obtained an adapted JMAK model revealing the thickness range which influences the crystallization kinetics mode significantly. The analytical solution also provides theoretical bounds for the film thickness, where the assumption of 2D or 3D kinetics is accurate. Finally, the conclusions related to amorphous silicon and amorphous nickel-titanium thin films are reported.
Název v anglickém jazyce
Finite-thickness effect on crystallization kinetics in thin films and its adaptation in the Johnson-Mehl-Avrami-Kolmogorov model
Popis výsledku anglicky
The Johnson-Mehl-Avrami-Kolmogorov (JMAK) model is widely used to quantify the isothermal crystallization kinetics. The present work reports an analytical solution for the crystallization kinetics in the special case of plate-shaped samples with a finitethickness. As a result, we obtained an adapted JMAK model revealing the thickness range which influences the crystallization kinetics mode significantly. The analytical solution also provides theoretical bounds for the film thickness, where the assumption of 2D or 3D kinetics is accurate. Finally, the conclusions related to amorphous silicon and amorphous nickel-titanium thin films are reported.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0088" target="_blank" >ED2.1.00/03.0088: Centrum nových technologií a materiálů (CENTEM)</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Applied Physics
ISSN
0021-8979
e-ISSN
—
Svazek periodika
115
Číslo periodika v rámci svazku
4
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
043505-1 - 043505-5
Kód UT WoS článku
000331210800020
EID výsledku v databázi Scopus
—