Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Sharp indentation crystal plasticity finite element simulations: Assessment of crystallographic anisotropy effects on the mechanical response of thin fcc single crystalline films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F14%3A43922005" target="_blank" >RIV/49777513:23640/14:43922005 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.commatsci.2014.01.064" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.commatsci.2014.01.064</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.commatsci.2014.01.064" target="_blank" >10.1016/j.commatsci.2014.01.064</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Sharp indentation crystal plasticity finite element simulations: Assessment of crystallographic anisotropy effects on the mechanical response of thin fcc single crystalline films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Continuum crystal plasticity finite element modeling has been used to address size-effects during indentation of thin-metallic films. Berkovich indentation simulations were performed in the frame of continuum crystal plasticity to study the influence ofa rigid fcc single-crystalline silicon substrate on a soft thin-metallic copper fcc single crystal film with different crystallographic orientations. It has been observed that crystallographic orientation of the indented plane has a great influence on the penetration depth at which substrate effects come into play, particularly in terms of hardness evolution. This effect has been related to the spatial arrangement of the active slip systems and the consequent plastic flow towards the substrate. In fcc crystals, indented planes that favor plastic flow along the indentation axis, such as (0 1 1) and (1 1 1) planes, are more sensitive than those in which plastic flow is favored perpendicular to the indentation axis, like (0 0 1) plane. In

  • Název v anglickém jazyce

    Sharp indentation crystal plasticity finite element simulations: Assessment of crystallographic anisotropy effects on the mechanical response of thin fcc single crystalline films

  • Popis výsledku anglicky

    Continuum crystal plasticity finite element modeling has been used to address size-effects during indentation of thin-metallic films. Berkovich indentation simulations were performed in the frame of continuum crystal plasticity to study the influence ofa rigid fcc single-crystalline silicon substrate on a soft thin-metallic copper fcc single crystal film with different crystallographic orientations. It has been observed that crystallographic orientation of the indented plane has a great influence on the penetration depth at which substrate effects come into play, particularly in terms of hardness evolution. This effect has been related to the spatial arrangement of the active slip systems and the consequent plastic flow towards the substrate. In fcc crystals, indented planes that favor plastic flow along the indentation axis, such as (0 1 1) and (1 1 1) planes, are more sensitive than those in which plastic flow is favored perpendicular to the indentation axis, like (0 0 1) plane. In

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JG - Hutnictví, kovové materiály

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0088" target="_blank" >ED2.1.00/03.0088: Centrum nových technologií a materiálů (CENTEM)</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2014

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Computational Materials Science

  • ISSN

    0927-0256

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    86

  • Číslo periodika v rámci svazku

    15 April 2014

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

    186-192

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus