Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Effect of Si and Ge Surface Doping on the Be2C Monolayer: Case Study on Electrical and Optical Properties

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F18%3A43964123" target="_blank" >RIV/49777513:23640/18:43964123 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1007/s12633-017-9698-7" target="_blank" >https://doi.org/10.1007/s12633-017-9698-7</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1007/s12633-017-9698-7" target="_blank" >10.1007/s12633-017-9698-7</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Effect of Si and Ge Surface Doping on the Be2C Monolayer: Case Study on Electrical and Optical Properties

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The electronic and optical properties of X (Si, Ge) doped Be2C monolayer has been investigated using the all-electron full potential linear augmented plane wave (FP-LAPW+lo) method in a scalar relativistic version as embodied in the Wien2k code based on the density functional theory. Using cohesive energy calculation, it has been shown that the Si and Ge doped to Be2C monolayer have stable structures and the doping processes modified the direct band gaps. The calculated electronic band structure confirm the direct band gap nature since the conduction band minimum and the valence band maximum are located at the center of the Brillouin zone. The total and partial density of states help to gain further information regarding the hybridizations and the orbitals which control the energy band gap. The calculated optical properties help to gain deep insight into the electronic structure. Our calculated results indicate that the X (Si, Ge) doped Be2C monolayer can be have potential application in optoelectronics devices.

  • Název v anglickém jazyce

    Effect of Si and Ge Surface Doping on the Be2C Monolayer: Case Study on Electrical and Optical Properties

  • Popis výsledku anglicky

    The electronic and optical properties of X (Si, Ge) doped Be2C monolayer has been investigated using the all-electron full potential linear augmented plane wave (FP-LAPW+lo) method in a scalar relativistic version as embodied in the Wien2k code based on the density functional theory. Using cohesive energy calculation, it has been shown that the Si and Ge doped to Be2C monolayer have stable structures and the doping processes modified the direct band gaps. The calculated electronic band structure confirm the direct band gap nature since the conduction band minimum and the valence band maximum are located at the center of the Brillouin zone. The total and partial density of states help to gain further information regarding the hybridizations and the orbitals which control the energy band gap. The calculated optical properties help to gain deep insight into the electronic structure. Our calculated results indicate that the X (Si, Ge) doped Be2C monolayer can be have potential application in optoelectronics devices.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10301 - Atomic, molecular and chemical physics (physics of atoms and molecules including collision, interaction with radiation, magnetic resonances, Mössbauer effect)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Silicon

  • ISSN

    1876-990X

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    10

  • Číslo periodika v rámci svazku

    5

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    1893-1902

  • Kód UT WoS článku

    000442754000012

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85044952817