Zařízení pro přípravu nanostrukturované superhydrofóbní povrchové vrstvy s radiálně symetrickým gradientem smáčivosti
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12310%2F19%3A43900335" target="_blank" >RIV/60076658:12310/19:43900335 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308162.pdf" target="_blank" >https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308162.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Zařízení pro přípravu nanostrukturované superhydrofóbní povrchové vrstvy s radiálně symetrickým gradientem smáčivosti
Popis výsledku v původním jazyce
Řešením je zařízení (1) pro přípravu nanostrukturované superhydrofóbní povrchové vrstvy (8) na nosném substrátu (6) s radiálně symetrickým gradientem smáčivosti zahrnující alespoň jednu depoziční komoru (2) pro vložení nosného substrátu (6) a alespoň jeden nanočásticový zdroj (3) pro generování svazku nanočástic (7) do depoziční komory (2), vyznačující se tím, že mezi nanočásticovým zdrojem (3) a depoziční komorou (2) je alespoň jedna ECWR elektroda (4) uspořádána tak, že záporné elektrické pole generované ECWR elektrodou (4) obklopuje svazek nanočástic (7), a v depoziční komoře (3) je alespoň jedna záporně nabitá řídicí elektroda (5), uspořádaná v průmětu svazku nanočástic (7) na povrchu nosného substrátu (6).
Název v anglickém jazyce
Process for preparing a nanostructured superhydrophobic surface layer with a radially symmetric wettability gradient
Popis výsledku anglicky
The solution is a device (1) for preparing a nanostructured superhydrophobic coating (8) on a carrier substrate (6) with a radially symmetrical wettability gradient comprising at least one deposition chamber (2) for receiving the carrier substrate (6) and at least one nanoparticle source (3) for generating a nanoparticle beam (7) into the deposition chamber (2), at least one ECWR electrode (4) is between the nanoparticle source (3) and the deposition chamber (2) so that a negative electric field generated by the ECWR electrode (4) ) surrounds the nanoparticle beam (7), and in the deposition chamber (3) there is at least one negatively charged control electrode (5) arranged in projection of the nanoparticle beam (7) on the surface of the carrier substrate (6).
Klasifikace
Druh
P - Patent
CEP obor
—
OECD FORD obor
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TG03010027" target="_blank" >TG03010027: Posílení aktivit proof-of-concept na Jihočeské univerzitě</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Číslo patentu nebo vzoru
308162
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
18. 12. 2019
Název vlastníka
Jihočeská univerzita v Českých Budějovicích a Univerzita Karlova
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence