Limited volume thin film deposition on geometrically complicated substrates

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12410%2F09%3A00011372" target="_blank" >RIV/60076658:12410/09:00011372 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Limited volume thin film deposition on geometrically complicated substrates

Popis výsledku v původním jazyce

This paper is focused on both the theoretical and experimental study of active particle penetration into a closed slot. Presented in this paper are layer profiles obtained through the plasma polymerization of acetylene on a specially developed substrateand the TiOx based layer profiles obtained by plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) on a glass substrate. In the second part of the paper a computational fluid model is presented that was developed in order to gain insight into the overriding physical phenomena taking part during the deposition process. This model enables us to predict the layer profile on complicated three-dimensional substrates and to set up the optimal parameters during the layer deposition. The data obtained theoretically and experimentally are compared.

Název v anglickém jazyce

Limited volume thin film deposition on geometrically complicated substrates

Popis výsledku anglicky

This paper is focused on both the theoretical and experimental study of active particle penetration into a closed slot. Presented in this paper are layer profiles obtained through the plasma polymerization of acetylene on a specially developed substrateand the TiOx based layer profiles obtained by plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) on a glass substrate. In the second part of the paper a computational fluid model is presented that was developed in order to gain insight into the overriding physical phenomena taking part during the deposition process. This model enables us to predict the layer profile on complicated three-dimensional substrates and to set up the optimal parameters during the layer deposition. The data obtained theoretically and experimentally are compared.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/KAN101120701" target="_blank" >KAN101120701: Nanokompozitní vrstvy a nanočástice vytvářené v nízkotlakém plazmatu pro povrchové modifikace</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

European Physical Journal D

ISSN

1434-6060

e-ISSN

—

Svazek periodika

54

Číslo periodika v rámci svazku

2

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000268329200007

EID výsledku v databázi Scopus

—