The intrinsic bubmicron ZnO thin films prepared by reactive magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F17%3A43915275" target="_blank" >RIV/60461373:22310/17:43915275 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

The intrinsic bubmicron ZnO thin films prepared by reactive magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

The DC reactive magnetron sputtering of metallic target in oxide atmosphere is a simple method of depositing the intrinsic (undoped) nanocrystalline layers of metal oxides. We have optimized the deposition of the intrinsic ZnO thin films with submicron thickness 50-500 nm on fused silica glass substrates and investigated the localized defect states below the optical absorption edge down to 0.01 % using photothermal deflection spectroscopy from UV to IR. We have shown that the defect density, the optical absorptance and the related optical attenuation in planar waveguides can be significantly reduced by annealing in air at 400 degrees C.

Název v anglickém jazyce

The intrinsic bubmicron ZnO thin films prepared by reactive magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

The DC reactive magnetron sputtering of metallic target in oxide atmosphere is a simple method of depositing the intrinsic (undoped) nanocrystalline layers of metal oxides. We have optimized the deposition of the intrinsic ZnO thin films with submicron thickness 50-500 nm on fused silica glass substrates and investigated the localized defect states below the optical absorption edge down to 0.01 % using photothermal deflection spectroscopy from UV to IR. We have shown that the defect density, the optical absorptance and the related optical attenuation in planar waveguides can be significantly reduced by annealing in air at 400 degrees C.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

21001 - Nano-materials (production and properties)

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

8th International Conference on Nanomaterials - Research and Application (NANOCON)

ISBN

978-80-87294-71-0

ISSN

—

e-ISSN

neuvedeno

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

36-41

Název nakladatele

Tanger s.r.o.

Místo vydání

Ostrava

Místo konání akce

Brno

Datum konání akce

19. 10. 2016

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

000410656100005