Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388980%3A_____%2F19%3A00517818" target="_blank" >RIV/61388980:_____/19:00517818 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/61389005:_____/19:00517818
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases
Popis výsledku v původním jazyce
In the CANAM research infrastructure of the NPI in Rez, a new system (LEIF – Low Energy Ion Facility) has been recently assembled utilizing a new-type of a multi-CUSP ion source. It can produce ions in a broad, tunable energy range 100 eV - 35 keV with a high current up to 500 uA. This system was adapted to employ an IBS technique, and it is also used for ion irradiation/implantation (in an implantation chamber) with high fluences up to 1020 cm-2 . In the process of ion beam sputtering, the targets are mounted on a cooled Cu holder,. In the case of a multiphase composite synthesis, the target holder acquires a multi-angle form that is revolving according the required stoichiometric ratio and sputtering/deposition rates of the phases. For promotion of the phase synthesis, the substrates are fixed on a heated platform and kept at elevated temperatures.
Název v anglickém jazyce
Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases
Popis výsledku anglicky
In the CANAM research infrastructure of the NPI in Rez, a new system (LEIF – Low Energy Ion Facility) has been recently assembled utilizing a new-type of a multi-CUSP ion source. It can produce ions in a broad, tunable energy range 100 eV - 35 keV with a high current up to 500 uA. This system was adapted to employ an IBS technique, and it is also used for ion irradiation/implantation (in an implantation chamber) with high fluences up to 1020 cm-2 . In the process of ion beam sputtering, the targets are mounted on a cooled Cu holder,. In the case of a multiphase composite synthesis, the target holder acquires a multi-angle form that is revolving according the required stoichiometric ratio and sputtering/deposition rates of the phases. For promotion of the phase synthesis, the substrates are fixed on a heated platform and kept at elevated temperatures.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
—
OECD FORD obor
10402 - Inorganic and nuclear chemistry
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů