Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388980%3A_____%2F19%3A00517818" target="_blank" >RIV/61388980:_____/19:00517818 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/61389005:_____/19:00517818

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In the CANAM research infrastructure of the NPI in Rez, a new system (LEIF – Low Energy Ion Facility) has been recently assembled utilizing a new-type of a multi-CUSP ion source. It can produce ions in a broad, tunable energy range 100 eV - 35 keV with a high current up to 500 uA. This system was adapted to employ an IBS technique, and it is also used for ion irradiation/implantation (in an implantation chamber) with high fluences up to 1020 cm-2 . In the process of ion beam sputtering, the targets are mounted on a cooled Cu holder,. In the case of a multiphase composite synthesis, the target holder acquires a multi-angle form that is revolving according the required stoichiometric ratio and sputtering/deposition rates of the phases. For promotion of the phase synthesis, the substrates are fixed on a heated platform and kept at elevated temperatures.

  • Název v anglickém jazyce

    Ion Beam Sputtering for Controlled Synthesis of Thin MAX (MXene) Phases

  • Popis výsledku anglicky

    In the CANAM research infrastructure of the NPI in Rez, a new system (LEIF – Low Energy Ion Facility) has been recently assembled utilizing a new-type of a multi-CUSP ion source. It can produce ions in a broad, tunable energy range 100 eV - 35 keV with a high current up to 500 uA. This system was adapted to employ an IBS technique, and it is also used for ion irradiation/implantation (in an implantation chamber) with high fluences up to 1020 cm-2 . In the process of ion beam sputtering, the targets are mounted on a cooled Cu holder,. In the case of a multiphase composite synthesis, the target holder acquires a multi-angle form that is revolving according the required stoichiometric ratio and sputtering/deposition rates of the phases. For promotion of the phase synthesis, the substrates are fixed on a heated platform and kept at elevated temperatures.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10402 - Inorganic and nuclear chemistry

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2019

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů