Charakterizace vodíku obsaženého ve vrstvách pasivovaného polykrystalického a mikrokrystalického křemíku s použitím metody ERDA

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F06%3A00032381" target="_blank" >RIV/61389005:_____/06:00032381 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Characterization of hydrogen contained in passivated poly-Si and microcrystalline-Si by ERDA technique

Popis výsledku v původním jazyce

Polycrystalline Si (poly-Si) thin films produced by atmospheric pressure chemical vapour deposition (APCVD) were treated by hydrogen passivation in the remote plasma system. Such materials could be potentially used for photovoltaics applications. The purpose of the present study was to investigate the effects of hydrogen passivation on poly-Si thin film properties, such as hall mobility and photoluminescence. Elastic recoil detection analysis (ERDA) was used to determine the depth distribution and concentration of hydrogen. ERDA was also applied to determine the hydrogen content of amorphous/microcrystalline silicon produced by plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) with various dilution ratios of the working gases (H2 and SiH4).

Název v anglickém jazyce

Characterization of hydrogen contained in passivated poly-Si and microcrystalline-Si by ERDA technique

Popis výsledku anglicky

Polycrystalline Si (poly-Si) thin films produced by atmospheric pressure chemical vapour deposition (APCVD) were treated by hydrogen passivation in the remote plasma system. Such materials could be potentially used for photovoltaics applications. The purpose of the present study was to investigate the effects of hydrogen passivation on poly-Si thin film properties, such as hall mobility and photoluminescence. Elastic recoil detection analysis (ERDA) was used to determine the depth distribution and concentration of hydrogen. ERDA was also applied to determine the hydrogen content of amorphous/microcrystalline silicon produced by plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) with various dilution ratios of the working gases (H2 and SiH4).

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/LC06041" target="_blank" >LC06041: Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Interface Analysis

ISSN

0142-2421

e-ISSN

—

Svazek periodika

38

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

819-822

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—