Měření Ag a Er implantovaných v silikátových sklech metodami XPS a RBS

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F09%3A00323154" target="_blank" >RIV/61389005:_____/09:00323154 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

RBS and XPS measurements of Ag and Er implantation into the silica

Popis výsledku v původním jazyce

Metal particle implantation into glasses has promising properties for application in optical devices. These properties depend on the size, shape, density and spatial distribution of metal particles. Heavy-ion implantation of silica glasses is an efficient method of fabrication of the metal-nanoparticles composites that are promising for ultra-fast optical devices. The Ag+ and Er+ ions were implanted into silicate glasses on implantor in collaboration with Forschungzentrum Dresden-Rossendorf. The depth distributions of implanted metal were investigated by RBS and XPS analytical methods. SRIM 2006 calculations were used for comparison. Implantation of Ag and Er ions into silicate glass was studied. The energies of the implanted Ag and Er ions were 330 keV and used implantation fluence of ions was 1.0 x 1016 ions.cm-2.

Název v anglickém jazyce

RBS and XPS measurements of Ag and Er implantation into the silica

Popis výsledku anglicky

Metal particle implantation into glasses has promising properties for application in optical devices. These properties depend on the size, shape, density and spatial distribution of metal particles. Heavy-ion implantation of silica glasses is an efficient method of fabrication of the metal-nanoparticles composites that are promising for ultra-fast optical devices. The Ag+ and Er+ ions were implanted into silicate glasses on implantor in collaboration with Forschungzentrum Dresden-Rossendorf. The depth distributions of implanted metal were investigated by RBS and XPS analytical methods. SRIM 2006 calculations were used for comparison. Implantation of Ag and Er ions into silicate glass was studied. The energies of the implanted Ag and Er ions were 330 keV and used implantation fluence of ions was 1.0 x 1016 ions.cm-2.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BG - Jaderná, atomová a molekulová fyzika, urychlovače

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/KJB100480601" target="_blank" >KJB100480601: Využití iontových svazků při studiu krystalických struktur</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Book of Contributed Papers

ISBN

978-80-89186-45-7

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

—

Název nakladatele

Department of Experimental Physics, Comenius University in Bratislava

Místo vydání

Bratislava

Místo konání akce

Liptovský Ján

Datum konání akce

17. 1. 2009

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—