Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Ion-beam lithography: A promising technique for the patterning of graphene oxide foil

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F18%3A00495721" target="_blank" >RIV/61389005:_____/18:00495721 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5053388" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1063/1.5053388</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5053388" target="_blank" >10.1063/1.5053388</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Ion-beam lithography: A promising technique for the patterning of graphene oxide foil

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Selective deoxygenation of graphene oxide has been conducted with regard with the design and fabrication of graphene based devices. The ion beam lithography is considered to be a powerful method for patterning onto graphene oxide foil. A helium beam has been used for both direct patterning onto graphene oxide foil and simultaneous online characterisation of its structural and compositional changes. Scanning electron microscopy, energy dispersive spectroscopy and Rutherford backscattering spectrometry analyses have been accurately employed to reveal and monitor the deoxygenation of the graphene oxide foil demonstrating the reliability of the direct patterning using the ion beam lithography technique.

  • Název v anglickém jazyce

    Ion-beam lithography: A promising technique for the patterning of graphene oxide foil

  • Popis výsledku anglicky

    Selective deoxygenation of graphene oxide has been conducted with regard with the design and fabrication of graphene based devices. The ion beam lithography is considered to be a powerful method for patterning onto graphene oxide foil. A helium beam has been used for both direct patterning onto graphene oxide foil and simultaneous online characterisation of its structural and compositional changes. Scanning electron microscopy, energy dispersive spectroscopy and Rutherford backscattering spectrometry analyses have been accurately employed to reveal and monitor the deoxygenation of the graphene oxide foil demonstrating the reliability of the direct patterning using the ion beam lithography technique.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10304 - Nuclear physics

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    AIP Conference Proceedings

  • ISBN

    978-0-7354-1727-4

  • ISSN

    0094-243X

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    3

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    AIP Publishing

  • Místo vydání

    Melville

  • Místo konání akce

    Geneva

  • Datum konání akce

    15. 9. 2017

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000457042700146